美國 ANGSTROM ENGINEERING 線性濺射 PVD 系統

線性濺射 PVD 系統

該系列線性濺射 PVD 系統可在大型基板上進行高產能生產,可無縫集成到更大的生產工具集群中,并提供超強均勻性。
使用 Angstrom Engineering 的線性濺射 PVD 系統,可以在顯示器、光伏和半導體應用的大面積面板上加工半導體或金屬薄膜。可解決研究人員在大面積或大量基底上進行濺射時所面臨的危險。從氣體流量和等離子體管理到磁控管的均勻性和溫度控制,Angstrom 的線性濺射 PVD 系統可徹底改變工作流程,實現比以往更高產能的生產。

Rectangular sputter cathode with argon plasma

將產品推向市場的工具——在非常大的基底上制作設備,一次運行可堆疊多層,且非常均勻,材料的利用率非常高。


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