美國 Angstrom Engineering COVAP物理氣相沉積平臺

COVAP物理氣相沉積平臺

Covap physical vapor deposition PVD platform that can have thermal resistive sources

Covap PVD 平臺為許多工藝應用提供了體積小、經濟且又堅固耐用的解決方案。設計用于需要安全可靠的工具,并在較小的空間內生產可重復、高質量薄膜的實驗室。

體積小功能強

Covap physical vapor deposition PVD platform with an open clamshell vacuum chamber

沉積源是隔離的,以減少熱效應和交叉污染。Covap PVD 平臺配備了一整套可拆卸的腔室屏蔽裝置,確保腔室易于清潔和維護。當腔體打開時,源和平臺電源以及氣壓都會被切斷,從而確保最高級別的安全性。它可以集成到手套箱中,也可以選擇獨立配置。

Vacuum chamber of the covap physical vapor deposition pvd system, featuring 4 thermal resistive sources

矩形貝殼式腔室,可實現出色的可及性
即使在手套箱內,材料和襯底也能輕松裝載
Covap物理氣相沉積平臺提供了無阻礙的通道,用于移除屏蔽物、清潔和準備系統進行下一次運行
可用于手套箱集成
面積小600mm x 1000mm
可選擇2或4源配置
基于配方的先進多層控制
順序或共沉積
夾具支持最大100mm x 100mm的襯底
QCM 傳感器經過精心隔離,確保不會受到相鄰源材料的干擾
渦輪分子泵提供高真空


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