美國 Angstrom Engineering Nexdep 物理氣相沉積平臺

Nexdep 物理氣相沉積平臺

4 iterations of Nexdep, Angstrom Engineering's versatile workhorse physical vapor deposition evaporator. It can be outfitted any number of ways depending on your process requirements.

Nexdep PVD 平臺兼顧了經濟性和多功能性，配備性能強大，體積較小。

體積小、經濟、功能齊全的 PVD 主力設備

2017 model of the Nexdep Physical vapor deposition pvd evaporator platform

Nexdep 物理氣相沉積平臺的底板尺寸為 400mm x 400mm，可容納多達 6 個源和多種 PVD 工藝，并可實現超高真空 (UHV)。根據需求選擇Nexdep PVD 平臺的裝備。

Electron Beam ebeam e-beam source in a Physical vapor deposition pvd vacuum chamber evaporator

沉積源選項

濺射
射頻、直流、脈沖直流、HIPIMS 和反應式。可提供圓形、線形和圓柱形陰極。
熱蒸發
可使用各種舟形、絲狀和坩堝加熱器。自動調整功能可確保精確的速率控制。
電子束蒸發
提供多種源功率和電源選項。通過 Aeres 軟件平臺控制帶有配方存儲功能的可編程掃頻控制器。扭矩感應坩堝分度器可檢測坩堝袋堵塞情況。Nexdep 室可容納多個電子束源。
等離子和離子束處理
使用一系列離子源進行清洗和薄膜增強，包括輝光放電等離子清洗。

基底夾具增強

Physical vapor deposition substrate stage with a heating bulb

分級加熱和冷卻

A variable angle stage, sometimes called a glad, or glancing angle deposition stage, in an Angstrom Engineering physical vapor deposition PVD vacuum chamber.

可變角度載物臺

A roll to roll flexible substrate stage in an Angstrom Engineering physical vapor deposition PVD vacuum chamber.

輥對輥涂層

A roll to roll flexible substrate stage in an Angstrom Engineering physical vapor deposition PVD vacuum chamber.

遮光快門

A roll to roll flexible substrate stage in an Angstrom Engineering physical vapor deposition PVD vacuum chamber.

行星和圓頂夾具

A roll to roll flexible substrate stage in an Angstrom Engineering physical vapor deposition PVD vacuum chamber.

基底偏壓


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