美國Angstrom Sciences,ONYX? 磁控管,HiPIMS –?磁控濺射
Angstrom Sciences， Inc. 成立于 1988 年，為高質(zhì)量薄膜的等離子體氣相沉積提供先進(jìn)的磁控管和精制材料。該公司非常注重研發(fā)，很快就為磁性、水冷和圓形磁控管目標(biāo)夾緊設(shè)計方面的多項技術(shù)進(jìn)步申請了專利。Angstrom Advantage™ 的特點(diǎn)創(chuàng)造了薄膜行業(yè)中最先進(jìn)、最易于使用的磁控管。
HiPIMS – 磁控濺射
Angstrom Science 為其圓形和線性磁控管產(chǎn)品線開發(fā)了解決方案，允許磁場離散變化（通過內(nèi)部安裝陰極的可互換磁體組）或連續(xù)變化（通過外部安裝陰極上的磁體組高度調(diào)整）。
HIPIMS 磁控管用于涂層沉積和具有高微觀結(jié)構(gòu)密度的薄膜沉積前對基材進(jìn)行預(yù)處理。
- 描述
HIPIMS 濺射是高功率脈沖磁控濺射的縮寫。脈沖濺射的這一相對較新的進(jìn)展使用非常高功率、短持續(xù)時間的脈沖來產(chǎn)生等離子體并電離大部分濺射原子。
事實(shí)證明，精確控制靶材表面的磁場強(qiáng)度對于 HIPIMS 工藝對于減少電弧和優(yōu)化濺射材料的電離至關(guān)重要。
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