美國(guó)Angstrom Sciences,Plasus,等離子體分析和過(guò)程控制

工藝流量控制器是高速閉環(huán)工藝氣體控制器,設(shè)計(jì)用于對(duì)基于反應(yīng)濺射的真空鍍膜和等離子體處理工藝進(jìn)行實(shí)時(shí)、原位精確控制。它們是完整、緊湊、靈活、使用方便且經(jīng)濟(jì)的解決方案,可以很容易地集成到新系統(tǒng)和現(xiàn)有系統(tǒng)中。同樣適用于生產(chǎn)或研發(fā)工具的工藝流程控制器可以在工藝穩(wěn)定性、可重復(fù)性和產(chǎn)量方面帶來(lái)明顯的改善。提供多種附件,包括專為 HIPMS 濺射應(yīng)用設(shè)計(jì)的傳感器。

過(guò)程控制在工業(yè)等離子體應(yīng)用中至關(guān)重要,以確保過(guò)程的可靠性和高質(zhì)量。在這里,直讀光譜 (OES) 是首選技術(shù),因?yàn)樗粫?huì)影響等離子體,并且可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)多種等離子體種類。我們的 PLASUS EMICON 系統(tǒng)具有分析、優(yōu)化和控制等離子體應(yīng)用所需的所有功能。

PLASUS?是光譜等離子體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的領(lǐng)先制造商。我們的核心競(jìng)爭(zhēng)力是開發(fā)用于工業(yè)和研發(fā)應(yīng)用的交鑰匙過(guò)程控制系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)適用于等離子體監(jiān)測(cè)、過(guò)程控制、過(guò)程優(yōu)化、質(zhì)量控制和光譜等離子體分析

受益于我們多年的經(jīng)驗(yàn)和領(lǐng)先的行業(yè)知識(shí) – 我們將隨時(shí)為您服務(wù),并為您的應(yīng)用提供全面的建議!

Angstrom Sciences 在平面和圓柱形磁控管方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)和領(lǐng)先的市場(chǎng)地位,使 Angstrom 處于領(lǐng)先地位,在提供完整的封裝中提供最廣泛的行業(yè)性能和應(yīng)用特定設(shè)計(jì),為高性能反應(yīng)濺射工藝提供整體解決方案。Angstrom Sciences 還可以提供現(xiàn)場(chǎng)工藝支持和工藝流程系統(tǒng)集成,為我們的客戶提供硬件和完全集成的解決方案。

?

系統(tǒng)特點(diǎn):

 

寬帶頻譜采集

該系統(tǒng)的寬帶光譜儀模塊可連續(xù)采集 200 至 1100 nm 等離子體光發(fā)射的完整光譜。

 

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等離子體發(fā)射

實(shí)時(shí)觀察和跟蹤工藝相關(guān)等離子體顆粒的光發(fā)射。這允許對(duì)等離子體條件進(jìn)行連續(xù)監(jiān)測(cè),并立即實(shí)現(xiàn)變化。

 

流程優(yōu)化

實(shí)時(shí)監(jiān)控能夠利用系統(tǒng)對(duì)參數(shù)變化的即時(shí)響應(yīng)來(lái)優(yōu)化等離子體工藝。

 

過(guò)程控制

模擬和數(shù)字輸出和輸入可用于安裝開環(huán)和閉環(huán)控制功能。例如,此功能可用于終點(diǎn)檢測(cè)或監(jiān)測(cè)與標(biāo)準(zhǔn)等離子體工藝條件的偏差。集成的數(shù)字 PID 控制功能可直接訪問(wèn)需要閉環(huán)控制的應(yīng)用,例如反應(yīng)濺射應(yīng)用中的氣體流量控制或功率控制。

 

多通道系統(tǒng)

EMICON MC 和 EMICON SA 系統(tǒng)最多可配備 8 個(gè)獨(dú)立的光譜儀通道。例如,在反應(yīng)濺射應(yīng)用中,可以實(shí)現(xiàn)多腔室工藝控制或空間分辨氣體流量控制。

 

易于設(shè)置,適用于工業(yè)環(huán)境

系統(tǒng)的所有部分都設(shè)計(jì)為在工業(yè)條件下工作。用于固定生產(chǎn)線的 EMICON SA 系統(tǒng)由 LAN 接口管理。EMICON MC 系統(tǒng)的 USB 2.0 連接使該系統(tǒng)成為不同應(yīng)用中移動(dòng)使用的首選。

 

工業(yè)接口 PROFIBUS 和 LAN

所有 EMICON 型號(hào)都可以通過(guò)工業(yè)接口 PROFIBUS 和 LAN 進(jìn)行擴(kuò)展,以便輕松集成到工業(yè)應(yīng)用中。

 

類型系列

EMICON 系列分為幾個(gè),可滿足不同的應(yīng)用類型:

EMICON MC:用于等離子體監(jiān)測(cè)和過(guò)程控制的多通道標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)。
EMICON SA:帶有集成過(guò)程單元的獨(dú)立系統(tǒng),用于生產(chǎn)線中的過(guò)程控制。
EMICON HR:用于詳細(xì)等離子體分析和等離子體監(jiān)測(cè)的光譜高分辨率系統(tǒng)。


Related posts