PVD 或物理氣相沉積材料包括一系列可用于制造薄膜涂層的材料。Angstrom Sciences?提供全面的高純度真空沉積材料選擇，包括上圖所示。

影響物理氣相沉積 （PVD） 沉積的薄膜的質(zhì)量和功能的因素有三個：沉積源的質(zhì)量和性能、沉積材料的特性和結(jié)構(gòu)，以及沉積系統(tǒng)及其相關(guān)外圍設(shè)備的內(nèi)在性能和布局。Angsstrom Sciences 有能力并知道如何控制這三個主要因素中的兩個。

從任何尺寸的濺射靶材到用于熱/電子束蒸發(fā)的材料，Angstrom Sciences 能夠為任何應(yīng)用推薦和指導(dǎo)最合適的材料。在這些工藝中，并非所有材料都是等效的，因為原材料的化學(xué)成分只是穩(wěn)健的、特定于應(yīng)用的工藝的起點。雜質(zhì)水平、晶粒尺寸、晶體結(jié)構(gòu)/織構(gòu)只是獨特定制合適沉積結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)的幾個考慮因素。我們采用各種專業(yè)加工技術(shù)，如熱壓、冷壓、熱等靜壓 （HIP）、冷等靜壓 （CIP）、真空感應(yīng)熔煉 （VIM） 和真空電弧鑄造，生產(chǎn)出符合最嚴格應(yīng)用標準的均質(zhì)、細晶粒、高密度材料。我們所有的 PVD 材料都提供 NIST 可追溯的成分和雜質(zhì)分析。

我們過去交付的材料清單;認識到這份清單只是觸及了我們可以提供的作品的皮毛。在 Angstrom Sciences，沒有訂單太小或太大。定制成分沒有最小批量要求，我們對客戶服務(wù)的非凡關(guān)注令業(yè)界羨慕不已。我們通常為平面、圓形和圓柱形濺射靶材提供背板（銅、鉬、銅鉻），為濺射靶材冷卻提供導(dǎo)電漿料和熱轉(zhuǎn)印箔，并且還提供鍵合服務(wù)，作為我們?yōu)?PVD 社區(qū)提供全面服務(wù)的一部分。