工藝流量控制器是高速閉環工藝氣體控制器，設計用于對基于反應濺射的真空鍍膜和等離子體處理工藝進行實時、原位精確控制。它們是完整、緊湊、靈活、使用方便且經濟的解決方案，可以很容易地集成到新系統和現有系統中。同樣適用于生產或研發工具的工藝流程控制器可以在工藝穩定性、可重復性和產量方面帶來明顯的改善。提供多種附件，包括專為 HIPMS 濺射應用設計的傳感器。

過程控制在工業等離子體應用中至關重要，以確保過程的可靠性和高質量。在這里，直讀光譜 （OES） 是首選技術，因為它不會影響等離子體，并且可以實時監測多種等離子體種類。我們的 PLASUS EMICON 系統具有分析、優化和控制等離子體應用所需的所有功能。

PLASUS?是光譜等離子體監測系統的領先制造商。我們的核心競爭力是開發用于工業和研發應用的交鑰匙過程控制系統。我們的系統適用于等離子體監測、過程控制、過程優化、質量控制和光譜等離子體分析。

受益于我們多年的經驗和領先的行業知識 – 我們將隨時為您服務，并為您的應用提供全面的建議！

Angstrom Sciences 在平面和圓柱形磁控管方面擁有豐富的經驗和領先的市場地位，使 Angstrom 處于領先地位，在提供完整的封裝中提供最廣泛的行業性能和應用特定設計，為高性能反應濺射工藝提供整體解決方案。Angstrom Sciences 還可以提供現場工藝支持和工藝流程系統集成，為我們的客戶提供硬件和完全集成的解決方案。

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系統特點：

寬帶頻譜采集

該系統的寬帶光譜儀模塊可連續采集 200 至 1100 nm 等離子體光發射的完整光譜。

實時監測等離子體發射

實時觀察和跟蹤工藝相關等離子體顆粒的光發射。這允許對等離子體條件進行連續監測，并立即實現變化。

流程優化

實時監控能夠利用系統對參數變化的即時響應來優化等離子體工藝。

過程控制

模擬和數字輸出和輸入可用于安裝開環和閉環控制功能。例如，此功能可用于終點檢測或監測與標準等離子體工藝條件的偏差。集成的數字 PID 控制功能可直接訪問需要閉環控制的應用，例如反應濺射應用中的氣體流量控制或功率控制。

多通道系統

EMICON MC 和 EMICON SA 系統最多可配備 8 個獨立的光譜儀通道。例如，在反應濺射應用中，可以實現多腔室工藝控制或空間分辨氣體流量控制。

易于設置，適用于工業環境

系統的所有部分都設計為在工業條件下工作。用于固定生產線的 EMICON SA 系統由 LAN 接口管理。EMICON MC 系統的 USB 2.0 連接使該系統成為不同應用中移動使用的首選。

工業接口 PROFIBUS 和 LAN

所有 EMICON 型號都可以通過工業接口 PROFIBUS 和 LAN 進行擴展，以便輕松集成到工業應用中。

類型系列

EMICON 系列分為幾個，可滿足不同的應用類型：

EMICON MC：用于等離子體監測和過程控制的多通道標準系統。
EMICON SA：帶有集成過程單元的獨立系統，用于生產線中的過程控制。
EMICON HR：用于詳細等離子體分析和等離子體監測的光譜高分辨率系統。