旋轉磁控管
旋轉磁控管是圓形磁控管的變體,其中磁體組繞中心軸機械旋轉。該實施例最初是為半導體應用開發的,允許以盡可能小的陰極直徑對固定襯底進行均勻涂覆。該技術的其他應用包括:材料重新沉積在目標面上會在生長的薄膜中產生缺陷;在旋轉磁控管中,整個靶面被一個在 20 到 600 RPM 之間旋轉的磁鐵組掃干凈。
Angstrom Sciences 提供一系列直徑為 4 英寸(100 毫米)至 16 英寸(406 毫米)的旋轉磁控管,并采用可調節磁體配置設計,可實現工藝優化和均勻性增強。我們的磁控管可以安裝在內部或外部配置中。
旋轉磁控管的優勢
旋轉磁控管提供出色的均勻性,而不會移動基板。這與全表面侵蝕相結合,使顆粒污染引起的缺陷極低。這些磁控管也可以集成到空間有限的機器中,為您的應用提供更大的靈活性。