美國Beam Imaging Solution BIS 直流離子源

產品概述

Beam Imaging SolutionsBIS?推出新型 DCIS-100 離子源組件。該離子源為 Colutron 熱陰極放電類型,與?G-1 型和 G-2 型離子槍系統配合使用。該離子源類似于 Colutron 氮化硼離子源(100 型)設計,但由高度耐用的氧化鋁陶瓷 (Al2O3).與氮化硼源不同,DCIS-100 的初始放氣時間以分鐘為單位,而不是由于氮化硼的吸濕性而以小時為單位。氧化鋁的機械耐久性也比氮化硼更高。DCIS-100 也比 Colutron 100-Q 型石英離子源更耐用,并且能夠為更高電流的離子束提供更高的溫度和陽極放電電流。現在可以在放電室中產生軸向磁場的新型 Colutron 型散熱器上市。

離子源可作為完整組件(100 型)提供,帶有離子源(DCIS-101 型)、插座法蘭 (DCIS-102)、氣三通和固體電荷座。DCIS-101 離子源也可單獨提供,可插入標準 Colutron 插座法蘭。也可提供帶柱溫箱的離子源。該烘箱用于蒸發高達 2000C 的固體材料。

傳統的 Colutron 100-Q 型離子源和備件現在也可從 Beam Imaging Solutions 獲得。許多部件,如細絲、陽極、接觸線和源插座法蘭,都可以在傳統的石英和陶瓷版本之間互換。氮化硼版本的零件也可用。

技術信息

DCIS-100、DCIS-101、DCIS-102、DCIS-103、DCIS-103-2
離子源法蘭2.75“ Conflat, 型號 DCIS-102, 5 端子 帶氣體輸入(1/4”)
電源要求陽極:250v,0.5A,燈絲:16V,20A
烘箱離子源(溫度高達 2000°C)烤箱電源要求:6V,12A

DCIS-103 帶螺線管磁場的散熱器

DCIS-103 散熱器與 Colutron 散熱器類似,不同之處在于它也有一個螺線管磁鐵線圈。磁場可用于改善等離子體中初級電離電子的限制,從而增強電離并改善束流。散熱器有兩個版本。標準版 DCIS-103 型有 2 層電線,在 10 安培時可以達到約 150 高斯。可選的 DCIS-103-2* 有 4 層電線,在 10 安培時可以達到 300 高斯。

* DCIS-103-2 需要一個專用類型的 Colutron 絕緣子法蘭,以容納螺線管的外徑,約為 2.75 英寸。這種特殊的絕緣子可從 Beam Imaging Solutions(型號 DCIS-500)獲得。

使用 DCIS-103 散熱器和 Colutron 100 型離子源在 3keV 下增強質子 (H+) 離子束電流。使用 Colutron 型 G-1 離子槍對光束進行質量分離。FC-1 型法拉第杯用于測量距離離子槍出口 12 英寸處的束流。


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