EVG6200 NT 掩模對準器是一種多功能工具，適用于光學雙面光刻和最大 200 mm 的晶圓尺寸。?
EVG6200 NT 以其自動化靈活性和可靠性而聞名，在最小的占地面積上提供最先進的掩模對準技術，并結合了最大的通量、先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。用戶友好的軟件、最短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務和支持，使其成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT 或全封裝的 EVG6200 NT Gen2 掩模對準系統(tǒng)提供半自動或自動配置，并配備集成隔振功能，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如薄型和厚型光刻膠的曝光、深腔和類似形貌的圖案化，以及化合物半導體等薄而易碎材料的加工。此外，EVG 專有的 SmartNIL 技術在半自動和全自動系統(tǒng)配置上均受支持。
特征
- 晶圓/基板尺寸從 200 mm/8 英寸不等
- 支持光刻工藝多功能性的系統(tǒng)設計
- 首次打印模式下吞吐量高達 180 WPH，自動對齊模式下高達 140 WPH
- 易碎、薄或翹曲的晶圓處理多種尺寸的晶圓，轉換時間短
- 使用接近墊片實現(xiàn)自動非接觸式楔塊補償序列
- 自動原點功能，用于對齊鍵的精確居中
- 具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能
- 支持最新的 UV-LED 技術
- 返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
- 自動化系統(tǒng)上的手動基板加載能力
- 可從半自動版本現(xiàn)場升級到全自動版本
- 最大限度地減少系統(tǒng)占用空間和設施要求
- 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和配方、可分配的訪問權限、不同的用戶界面語言）
- 先進的軟件功能以及研發(fā)與全面生產(chǎn)之間的兼容性
- 敏捷加工和轉換重新加工
- 遠程技術支持和SECS/GEM兼容性
- 桌面或帶防振花崗巖臺面的獨立版本
- 其他功能：
