美國Harrick HVC-MRA-5 拉曼反應池，拉曼高溫反應池，拉曼光譜池，拉曼池，高溫反應室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應池，原位高溫拉曼反應裝置，最高操作壓力到3.44MPa
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應池，原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
Harrick HVC-MRA-5 拉曼池，拉曼光譜池，拉曼高溫反應池，拉曼池，高溫反應室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應池，原位高溫拉曼反應裝置，在受控環境條件下對粉末進行拉曼測量
