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            Harrick光譜儀ATR高溫高壓反應池
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            標簽: CHC-VUV-3 漫反射低溫反應室

            Harrick CHC-CHA-3低溫反應室, CHC-VUV-3 漫反射低溫反應室,用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量,適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應

            Harrick CHC-CHA-3低溫反應室, CHC-VUV-3 漫反射低溫反應室,用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量,適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應

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            關于Harrick

            Harrick Scientific制造高質量的光譜設備和光學元件。產品有:多重反射ATR、可拆卸液體電池、鏡面反射探頭、ATR微量采樣器等。

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