Harrick HVC-DRP-5 高溫反應室，HVC-DRM-5 高溫反應池，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應池，紅外光譜儀催化反應, 原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
