UV-EXP-SYS,UV-EXP,UV-EXP150R,UV-EXP150S,UV-EXP200S,UV-EXP200R-SYS,UV-EXP300S,UV-EXP150R-SYS,UV-EXP150S-SYS,UV-EXP200S-SYS,UV-EXP200R-SYS,UV-EXP300S-SYS,UV-EXP系列光刻曝光系統(tǒng)
UV-EXP系列光刻曝光系統(tǒng)
idonus UV-EXP系列曝光系統(tǒng)旨在滿足最嚴(yán)格的光質(zhì)量需求，配備高功率UV-LED光源、高品質(zhì)光均勻化器和遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。該設(shè)備可作為獨(dú)立的臺(tái)式設(shè)備，提供充足的工作空間用于放置基材，或可集成到您的系統(tǒng)中。本文件將指導(dǎo)您選擇最適合您需求的型號(hào)，并規(guī)劃其在工作流程中的集成。
光源引擎（UV-EXP-LE）
在UV-EXP內(nèi)部嵌入了我們的高性能UVLED光源引擎（UV-EXP-LE）。通常，單個(gè)LED發(fā)出365 nm、385 nm、395 nm、405 nm、435 nm或這些波長的組合光（標(biāo)準(zhǔn)提供365/405/435 nm）。UV-EXP-LE由電子設(shè)備精確控制，并通過空氣或水進(jìn)行冷卻。安裝在UV-EXP背面的電源模塊提供所需的工作電流。LED產(chǎn)生的原始光經(jīng)過高品質(zhì)的均勻化光學(xué)系統(tǒng)處理后，釋放到曝光源外殼中。
曝光源（UV-EXP）
光源采用非反射外殼，封裝光源引擎并支持遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。準(zhǔn)直光學(xué)將發(fā)散（但已均勻化）的UV光束垂直對齊至基材。該光源為特定的曝光區(qū)域設(shè)計(jì)。根據(jù)您的基材尺寸，您可以在我們的標(biāo)準(zhǔn)尺寸（?150、□150、?200、□200和□300 mm）之間進(jìn)行選擇，也可提供定制尺寸。
機(jī)械底座（UV-MB）和UV保護(hù)罩（UV-SHIELD）
機(jī)械底座（UV-MB）支撐UV-EXP系統(tǒng)，而UV保護(hù)罩封閉工作區(qū)域。設(shè)計(jì)上提供充足的工作空間以容納基材和對準(zhǔn)工具。周圍的UV保護(hù)罩過濾掉強(qiáng)烈的UV光，保護(hù)您的眼睛和周圍材料，同時(shí)始終允許視覺監(jiān)控。
控制單元（UV-EXP-CU）和反饋傳感器（UV-SENS-GaP）
曝光系統(tǒng)的操作由UV-EXP-CU控制單元控制。通過UV和溫度傳感器的反饋回路，UV-EXP-CU控制功率、曝光時(shí)間、照射強(qiáng)度或劑量。為您的安全提供了聯(lián)鎖裝置。還提供遠(yuǎn)程控制單元UV-EXP-RCU，可與現(xiàn)有設(shè)備協(xié)議集成。
我們的UV-EXP曝光系統(tǒng)采用高功率發(fā)光二極管（LED）產(chǎn)生紫外線。在與目前傳統(tǒng)系統(tǒng)中使用的汞燈相比，LED具有許多優(yōu)勢，正引發(fā)整個(gè)行業(yè)的轉(zhuǎn)型。下面的表格中列出了LED技術(shù)的主要技術(shù)特點(diǎn)，圖2介紹了對UV光刻有用的4種波長的光譜分布。
365 nm UV-LED具有最高的靈活性，是我們在大多數(shù)應(yīng)用中推薦的選擇。如果過程效率是關(guān)鍵參數(shù)，那么385 nm是某些光刻膠的最佳選擇。2LE或3LE選項(xiàng)允許將2或3個(gè)LED安裝在曝光單元上，當(dāng)需要時(shí)可以在幾秒鐘內(nèi)手動(dòng)切換。
大功率UV-LED
光譜：
每個(gè)LED有一個(gè)準(zhǔn)高斯分布關(guān)于一個(gè)單一的設(shè)計(jì)波長（混合波長可能）：
?365 nm, 385 nm, 395 nm, 405 nm, 435 nm
?365/405 nm （i線和h線）
?365/405/435 nm （i-， h-和g-線）
?在所需波長之外沒有能量浪費(fèi)：最小的樣品加熱
?必要的劑量可以計(jì)算為每次應(yīng)用和精確控制
使用期：> 10 000 h（實(shí)際曝光時(shí)間）
時(shí)序穩(wěn)定性：
?無需預(yù)熱時(shí)間（即時(shí)開機(jī)）
?無快門
?性能隨溫度變化(約。最高工作溫度-10%，控制反饋回路補(bǔ)償)
環(huán)境影響 ：
?無有害物質(zhì)
?能源效率高
光線的質(zhì)量
光刻需要光照射
晶圓均勻、準(zhǔn)直、遠(yuǎn)心。
均勻性保證了相同的固化/曝光水平
完整的光刻膠表面。一個(gè)典型的輻照度不均勻度要求在±5%以下。
我們的UV-EXP產(chǎn)品保證±3%，無可比擬
我們的大多數(shù)競爭對手。對于每一個(gè)交付的UV-EXP，我們掃描照明區(qū)域在4000多點(diǎn)以上
確保其一致性。
我們的標(biāo)準(zhǔn)直線的準(zhǔn)直角由±1°和±2°之間（取決于型號(hào)）。它是足夠低的以產(chǎn)生小的和尖銳的特點(diǎn)，也適用于較厚的光刻膠層。
UV-ACA（可調(diào)準(zhǔn)直角度）選項(xiàng)
引入一套可互換的固定光圈，
用于減小準(zhǔn)直角的目的
以降低輻照度輸出為代價(jià)。
UV-EXP-CU控制單元
反饋控制
UV-EXP-CU控制單元（Gen. 2型號(hào)，默認(rèn)包含）
允許完全控制您的曝光參數(shù)：
?持續(xù)時(shí)間：控制曝光時(shí)間從0.1到600s
?電流：控制從10提供給LED的電流
達(dá)到額定電流的100%。
?輻照度：控制UV-EXP輻照度從最小5
最大等于mW/cm2。系統(tǒng)的輻照度等級(jí)。
?劑量：控制總劑量（輻照度乘以持續(xù)時(shí)間）
從10到9 000 mJ/cm2。
?SPD平衡：完全控制頻譜功率分布
（SPD）用于多波長光引擎。
準(zhǔn)確的輸出是由安裝在UV-EXP上的磷化鎵，GaP， UV-SENSGAP傳感器（系統(tǒng)標(biāo)配）保證的
外殼，它與控制單元一起調(diào)節(jié)輻照度通過閉環(huán)反饋控制。
光引擎的溫度被測量和顯示，并且冷卻系統(tǒng)自動(dòng)控制，保證安全操作溫度。標(biāo)準(zhǔn)冷卻方式為風(fēng)冷熱管。當(dāng)需要精確的過程穩(wěn)定性時(shí)（長時(shí)間工作）循環(huán))，我們建議選擇水冷（UVWA）。
一個(gè)先進(jìn)的遙控單元（UV-EXP-RCU）可作為一個(gè)選項(xiàng)，它可以實(shí)現(xiàn)直接系統(tǒng)控制
通過modBus TCP協(xié)議控制主進(jìn)程。脈沖操作為也通過UV-EXP-RCU支持。請聯(lián)系我們的銷售團(tuán)隊(duì)，如果您希望收到UV-EXP-RCU的具體技術(shù)文件。
UV-EXP-SYS,UV-EXP,UV-EXP150R,UV-EXP150S,UV-EXP200S,UV-EXP200R-SYS,UV-EXP300S,UV-EXP150R-SYS,UV-EXP150S-SYS,UV-EXP200S-SYS,UV-EXP200R-SYS,UV-EXP300S-SYS,UV-EXP系列光刻曝光系統(tǒng)
http://ydzhly.com/idonus-irmicroscope/UV-EXP-SYS,UV-EXP/
