瑞士idonus UV-LED光刻曝光系統(tǒng) UV-EXP系列

瑞士idonus UV-LED光刻曝光系統(tǒng) UV-EXP系列

通過(guò)UV-EXP系列,idonus提供了一種基于高功率LED和高級(jí)均化光學(xué)技術(shù)的創(chuàng)新UV照明系統(tǒng)。該產(chǎn)品線適用于光刻膠曝光(UV-LED光刻和固化),并適用于MEMS、微流體學(xué)、光子學(xué)、半導(dǎo)體和光伏應(yīng)用中使用的各種基材和光刻膠。我們的標(biāo)準(zhǔn)UV照明產(chǎn)品系列滿足了寬度可達(dá)300毫米(11.8英寸)的掩膜和晶圓的光刻需求。

UV-LED曝光的優(yōu)點(diǎn)

  • 穩(wěn)定的照明,無(wú)需每日校準(zhǔn)
  • 即開(kāi)即用,光源僅在曝光期間開(kāi)啟,無(wú)需機(jī)械快門(mén)
  • 壽命長(zhǎng),不再需要更換耗材
  • 窄光譜:不會(huì)導(dǎo)致基材不必要的加熱,工藝更加可重復(fù)
  • 低功耗
  • 無(wú)維護(hù)成本

idonus UV-LED曝光系統(tǒng)

idonus推出了一整套UV-LED曝光產(chǎn)品。我們的系統(tǒng)結(jié)合了市場(chǎng)上最有效的UV-LED與高等級(jí)微透鏡陣列,全部在內(nèi)部完成組裝和控制。我們的設(shè)計(jì)采用了完全遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng),在整個(gè)曝光區(qū)域內(nèi)提供可重復(fù)和均勻的照明條件,即高度均勻且穩(wěn)定的強(qiáng)度,并具有極小的發(fā)散角。這種先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)確保了整個(gè)基材的完美均勻曝光,生成具有直側(cè)壁的固化光刻膠,并實(shí)現(xiàn)了具有微米級(jí)關(guān)鍵尺寸的圖形精確微結(jié)構(gòu)化。

idonus UV-EXP的性能

UV-LED曝光系統(tǒng)提供多種標(biāo)準(zhǔn)配置,并可以通過(guò)多種選項(xiàng)和變體(如單一或混合波長(zhǎng))進(jìn)行定制。作為特殊設(shè)備的制造商,idonus還可以根據(jù)客戶的規(guī)格要求開(kāi)發(fā)完全定制的設(shè)備(例如,不同的曝光區(qū)域、適配的設(shè)備外殼)。我們的產(chǎn)品主要特點(diǎn)見(jiàn)“標(biāo)準(zhǔn)UV-LED曝光系統(tǒng)”表格。

idonus標(biāo)準(zhǔn)UV-LED曝光系統(tǒng)

型號(hào)波長(zhǎng)有效曝光區(qū)輻照度 Ee非均勻性 C *αFWHMWD **外部尺寸,mm3
UV-LAB100R365 nm? 100 mm5%±2°250 mm250x300x670
UV-EXP150R365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm? 150 mm50 mW/cm23%±1.8°350 mm1000x480x330
UV-EXP150S365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm150×150 mm250 mW/cm23%±1.8°300 mm960x500x420
UV-EXP200R365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm? 200 mm30 mW/cm23%±1.4°400 mm1170x570x530
UV-EXP200S365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm200×200 mm230 mW/cm23%±1.4°400 mm1170x570x530
UV-EXP300S-1LE365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm300×300 mm217 mW/cm23%±1.0°300 mm1270x715x700
UV-EXP300S-3LE365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm300×300 mm250 mW/cm2(3 個(gè)LED)3%±1.0°300 mm1270x715x700
UV-EXP600S365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm600×600 mm230 mW/cm2(多個(gè)LED)3%±2.0°300 mm? ? ? ? ? ? ?***

*非均勻性 (C):光強(qiáng)度分布的最大偏差百分比。 **WD:工作距離。


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