瑞士idonus UV-LED光刻曝光系統 UV-EXP系列
通過UV-EXP系列，idonus提供了一種基于高功率LED和高級均化光學技術的創新UV照明系統。該產品線適用于光刻膠曝光（UV-LED光刻和固化），并適用于MEMS、微流體學、光子學、半導體和光伏應用中使用的各種基材和光刻膠。我們的標準UV照明產品系列滿足了寬度可達300毫米（11.8英寸）的掩膜和晶圓的光刻需求。
UV-LED曝光的優點
- 穩定的照明，無需每日校準
- 即開即用，光源僅在曝光期間開啟，無需機械快門
- 壽命長，不再需要更換耗材
- 窄光譜：不會導致基材不必要的加熱，工藝更加可重復
- 低功耗
- 無維護成本
idonus UV-LED曝光系統
idonus推出了一整套UV-LED曝光產品。我們的系統結合了市場上最有效的UV-LED與高等級微透鏡陣列，全部在內部完成組裝和控制。我們的設計采用了完全遠心光學系統，在整個曝光區域內提供可重復和均勻的照明條件，即高度均勻且穩定的強度，并具有極小的發散角。這種先進的光學系統確保了整個基材的完美均勻曝光，生成具有直側壁的固化光刻膠，并實現了具有微米級關鍵尺寸的圖形精確微結構化。
idonus UV-EXP的性能
UV-LED曝光系統提供多種標準配置，并可以通過多種選項和變體（如單一或混合波長）進行定制。作為特殊設備的制造商，idonus還可以根據客戶的規格要求開發完全定制的設備（例如，不同的曝光區域、適配的設備外殼）。我們的產品主要特點見“標準UV-LED曝光系統”表格。
idonus標準UV-LED曝光系統
| 型號 | 波長 | 有效曝光區 | 輻照度 Ee | 非均勻性 C * | αFWHM | WD ** | 外部尺寸，mm3 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| UV-LAB100R | 365 nm | ? 100 mm | — | 5% | ±2° | 250 mm | 250x300x670 |
| UV-EXP150R | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | ? 150 mm | 50 mW/cm2 | 3% | ±1.8° | 350 mm | 1000x480x330 |
| UV-EXP150S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 150×150 mm2 | 50 mW/cm2 | 3% | ±1.8° | 300 mm | 960x500x420 |
| UV-EXP200R | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | ? 200 mm | 30 mW/cm2 | 3% | ±1.4° | 400 mm | 1170x570x530 |
| UV-EXP200S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 200×200 mm2 | 30 mW/cm2 | 3% | ±1.4° | 400 mm | 1170x570x530 |
| UV-EXP300S-1LE | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 300×300 mm2 | 17 mW/cm2 | 3% | ±1.0° | 300 mm | 1270x715x700 |
| UV-EXP300S-3LE | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 300×300 mm2 | 50 mW/cm2（3 個LED） | 3% | ±1.0° | 300 mm | 1270x715x700 |
| UV-EXP600S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 600×600 mm2 | 30 mW/cm2（多個LED） | 3% | ±2.0° | 300 mm | ? ? ? ? ? ? ?*** |
*非均勻性 (C)：光強度分布的最大偏差百分比。 **WD：工作距離。
