瑞士IDONUS HF蒸汽相蝕刻機 VPE系列
VPE由反應室和蓋子組成。蓋子內集成了加熱元件，用于控制待蝕刻基材的溫度。晶圓夾緊有兩種方式：晶圓可以通過使用夾緊環進行機械夾緊。螺釘從設備的背面擰入，始終與氫氟酸（HF）蒸汽保持隔離。三顆螺母易于在佩戴防護手套的情況下操作。另一種選擇是靜電夾緊。單片（長度超過10毫米）以及晶圓均可夾緊在加熱元件上。晶圓的背面受到保護，避免蝕刻。
液體HF被注入反應室后，反應室用蓋子封閉。在室溫下生成HF蒸汽，蝕刻過程自發開始。蝕刻速率由晶圓溫度控制，溫度可調范圍為35 °C到60 °C。
處理后，酸可以儲存在密封容器中的儲液罐內以便重復使用。液體轉移通過降低帶手柄的連接儲液罐來簡單實現。由于重力作用，酸流入儲液罐，并可以通過兩個閥門關閉。通過打開閥門并提升手柄來重新填充反應室，酸會流入反應室。酸可用于多次蝕刻，直到需要更換為止。VPE系統占地面積小，易于集成到現有的流動箱中。
二氧化硅的蝕刻速率會隨著反應室內液體HF的溫度略有變化。HF的溫度取決于潔凈室的環境溫度。此外，在長時間的蝕刻過程中，HF會升溫，導致蝕刻速率從一個晶圓到另一個晶圓逐漸增加，直到系統穩定。
為了穩定蝕刻速率，我們配備了一個具有溫控液體HF的反應室。HF的溫度可以通過額外的控制器進行調節。將HF酸加熱到一個閾值溫度以上，可以在蝕刻過程中保持溫度穩定。
