該模塊化系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)高精度、可重復(fù)的掩模板（shadow mask）與晶圓對(duì)準(zhǔn)，并集成了抗振動(dòng)夾持夾具，確保穩(wěn)定固定和精確操作。

一般信息

通過(guò)掩模板（shadow mask）進(jìn)行薄膜沉積是一種高效的 PVD（物理氣相沉積） 層結(jié)構(gòu)化工藝。該方法可以通過(guò)在沉積過(guò)程中精確遮罩基板，取代傳統(tǒng)光刻和蝕刻步驟。然而，該工藝的核心挑戰(zhàn)在于掩模板與晶圓的對(duì)準(zhǔn)和臨時(shí)固定。

idonus 提供了一種高精度、可重復(fù)的掩模板與晶圓對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，并集成了抗振動(dòng)夾持夾具。在顯微鏡輔助下，該系統(tǒng)已實(shí)現(xiàn)6 μm 的對(duì)準(zhǔn)公差。夾具可直接放入PVD 真空腔室進(jìn)行沉積。沉積完成后，夾具打開(kāi)，晶圓和掩模板可無(wú)損分離，并且掩模板可重復(fù)使用。

我們可根據(jù)您的需求提供適用于任何基板尺寸的沉積夾具，并定制高精度、成本高效的掩模板，材料包括金屬、硅、玻璃或陶瓷。

掩模板對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)

✔ 精確且可重復(fù)的 PVD 層結(jié)構(gòu)化
✔ 抗振動(dòng)夾具，適用于 PVD 工藝
✔ 簡(jiǎn)便且無(wú)損的晶圓夾持機(jī)制
✔ 真空夾持，便于對(duì)準(zhǔn)操作
✔ 兼容不同尺寸的晶圓
✔ 可定制夾具，滿(mǎn)足特定需求
✔ 無(wú)需額外安裝，即插即用
✔ 運(yùn)行成本低，經(jīng)濟(jì)高效

可選配件：雙目顯微鏡用于對(duì)準(zhǔn)控制

為了精確對(duì)準(zhǔn)晶圓和掩模板，必須使用顯微鏡。為了提高效率，系統(tǒng)需要配備兩個(gè)獨(dú)立的顯微光學(xué)系統(tǒng)，這樣在操作 XY 軸和旋轉(zhuǎn)軸時(shí)，兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像可以同時(shí)顯示。

顯微鏡管鏡頭配有：

• 5x 長(zhǎng)工作距離物鏡
• USB 相機(jī)
• LED 頂部照明，通過(guò)物鏡實(shí)現(xiàn)反射式照明

該顯微鏡系統(tǒng)可以根據(jù)不同的應(yīng)用需求更換物鏡。物鏡上方的旋輪用于焦距調(diào)節(jié)。
每個(gè)顯微鏡管鏡頭都安裝在手動(dòng) XY 臺(tái)上，便于精確調(diào)節(jié)。
系統(tǒng)可輕松旋轉(zhuǎn) 90°，將顯微鏡移出工作區(qū)域，以便加載或卸載夾具。

技術(shù)規(guī)格

• 產(chǎn)品代碼: SMA
• 晶圓與掩模板尺寸:
  • 直徑：100 mm、150 mm 或 200 mm（取決于設(shè)備配置，獨(dú)立選擇）
  • 厚度：根據(jù)要求定制
• 平臺(tái)特性:
  • X 和 Y 軸范圍：刻度步進(jìn) 10 μm，靈敏度 2 μm
  • Z 軸范圍：刻度步進(jìn) 10 μm，靈敏度 2 μm
  • 旋轉(zhuǎn)：360° 無(wú)限旋轉(zhuǎn)，靈敏度 0.02°
  • 傾斜：工廠(chǎng)校準(zhǔn)，并可由技術(shù)員手動(dòng)調(diào)整
• 對(duì)準(zhǔn)精度:
  • 線(xiàn)性對(duì)準(zhǔn)：通常 6 μm；最大 10 μm
  • 旋轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)：0.001° 至 0.009° 之間
• 夾具:
  • 晶圓尺寸：100 mm、150 mm 或 200 mm
  • 材料：鋁（可選擇是否陽(yáng)極氧化）
  • 夾具厚度：20mm（依賴(lài)晶圓與掩模板的厚度）
• 掩模板材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷（可定制）
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  尺寸（mm）：550*270 mm2

• 安裝要求: 顯微鏡用于對(duì)準(zhǔn)過(guò)程中的視覺(jué)控制（標(biāo)準(zhǔn)）/ 真空：
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  可選：雙目顯微鏡用于對(duì)準(zhǔn)過(guò)程中的視覺(jué)控制

  • 物鏡：5x M Plan APO；WD 35 mm
  • 分辨率：小于 2 μm
  • 視場(chǎng)：1.35 mm x 1.08 mm
  • 相機(jī)：1.3 Mpx 單色，USB 輸出，圖像采集軟件需要 PC 或筆記本