美國 Lattice Electro Optics Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm) 準分子激光鏡XeCl（308nm）和XeF（351nm-353nm）

?美國 Lattice Electro Optics

Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm)

準分子激光鏡XeCl（308nm）和XeF（351nm-353nm）

參數

材料:?UV Fused Silica
平行度：< 3 arc min
凈孔徑：> 85% of central dimension
倒角：0.3mm?′?45°
表面形狀:l/10 at 632.8nm
表面質量:10-5 scratch-dig
能量:Up to 4J/cm2

 

 

Part NoDiameter

Thickness

A.O.I.
XeCl (308nm)XeF (351-353nm)
RX-308-0-UF-0525RX-352-0-UF-05031.00”0.250”0°
RX-308-0-UF-1025RX-352-0-UF-1025??????????36.0mm5.0mm0°
RX-308-0-UF-1538RX-352-0-UF-15381.50”5.0mm0°
RX-308-0-UF-2038RX-352-0-UF-20382.00”0.375”0°
RX-308-45-UF-0525RX-352-45-UF-05031.00”0.250”??45°
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