美國 Nonsequitur Technologies,離子槍,電能 < 10kV,1407 型,高電流密度光斑
離子槍
NTI 離子槍用于材料研究、表面分析和太陽風(fēng)模擬等應(yīng)用。它們是按訂單制造的，我們很樂意根據(jù)您的需求定制系統(tǒng)。
電能 < 10kV,1407 型：高電流密度點(diǎn)光源
離子槍 型號 1407
高電流密度光斑
Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍具有來自傳統(tǒng)電子碰撞電離源的雙等離子加速器級性能。應(yīng)用包括俄歇或 SIMS 深度剖分，其中需要一個(gè)小凹坑以避免損壞相鄰樣品區(qū)域，以及 TEM/SEM 樣品制備。可達(dá)到的非常高的刻蝕速率也允許該色譜柱用于厚膜和微觀結(jié)構(gòu)的切片
獨(dú)特的離子源，發(fā)射穩(wěn)定
雙鎢合金細(xì)絲
UHV 結(jié)構(gòu)
電源和偏轉(zhuǎn)電源集成在一個(gè) 51/4 19“ 機(jī)架安裝中
電氣連接和進(jìn)氣口均位于外殼后部，簡化操作
元件 | 描述 |
|---|---|
光束能量 | 5eV 至 5000eV 連續(xù)可變 |
束流 | 最大 20μA @ 5keV 束能量 |
光斑尺寸 （FWHM） | 15μm @500nAkeV、20μm @2μA、75μm @20uA、5kV、10mm W.D. |
電氣 | 115/220V 50/60Hz 自動選擇 |
法蘭 | 4.50 或 6.00 CFF 用于安裝，2.75CFF 泵送，1.33 （34mm） CFF 進(jìn)氣口。 |
