Prevac分析室
專為需要研究固態表面、薄膜和納米材料的化學和物理性質的應用而設計。
描述
它們通常具有許多UHV端口(各種標準尺寸),用于連接各種類型的分析和光譜儀器。它們通常設計用于1×10之間的基礎壓力-10毫巴和1×10-11毫巴。根據需要，由高導金屬(B < 0.5μT內的磁場)或不銹鋼制成。我們的標準多功能分析室提供了足夠的端口和設施來滿足大多數當前和未來的要求，但我們也很樂意根據您的個人規格進行制造。
分析室通常配備有:
精密機械手，
泵送系統(渦輪、帶低溫擋板的TSP和離子泵)，
視窗，
壓力計，
不同類型的分析儀，
離子、電子、紫外線、X射線源等。
Prevac流經高壓反應器
設計用于在UHV條件下，在反應室中研究高壓下(反應杯之間)氣體和固體/粉末樣品之間的反應。
樣品可能會受到靜態或流動氣體的影響，加熱溫度高達750°C，并有可能冷卻至-100°C(可選)。
描述
高壓反應器的真空室內部是一個杯系統，它是一個封閉的空間，樣品在其中與氣體接觸。打開和關閉杯子是通過手動旋轉反應體積螺釘來完成的。根據應用，樣品安裝臺可由不銹鋼、鈦、鍍金表面或其他材料/合金制成。樣品架的溫度由HEAT3-PS電源調節。
靜態或流動模式(氣體溫度高達300°C)下的活性氣體實驗可在1 bar至20 bar的壓力下進行(取決于氣體定量給料系統的類型)。
特殊設計允許關閉反應杯內的整個PTS樣品架，因此只有一個密封面。這種解決方案需要更大體積的氣體。
Prevac靜態高壓反應器
設計用于促進各種反應氣體的高壓(高達1巴)實驗。
靜態高壓反應器配有一系列不同標準尺寸的UHV端口。它們通常設計用于低于1×10的基礎壓力-8毫巴。具有冷卻和加熱選項的反應器可以在高達650°c的負溫下工作。加熱和冷卻設施由HEAT3-PS溫度控制器控制，溫度取決于各個樣品架的規格。可轉移的樣品架通過轉移法蘭引入，并儲存在樣品架接收站。
