用于 UHV 環境中光電子能譜實驗的分析系統，具有可控的樣品溫度。

獨立系統適用于分析各種納米材料。該系統包括一個分析室和一個負載鎖定室，用于輕松快速地加載基板。泵送系統與分析室的標準容積相結合，可將極限壓力降至 10^-11mbar，具體取決于泵的配置。