描述
專用于通過電子光譜技術對固體和粉末樣品進行表面分析的多室 UHV 系統：
- X 射線光電子能譜 (XPS)
- 紫外光發射光譜 (UPS)
- 俄歇電子能譜 (AES)
- 掃描探針顯微鏡 (SPM)
- 低能電子衍射 (LEED)
- 程序升溫脫附 (TPD)
- 解決方案允許在所有腔室中使用一種樣品架類型。
該系統包括：
- 帶有分析儀（包括儀器和軟件）的光譜室，允許使用 XPS、UPS、AES、EPS 技術。該分析儀支持 XPS 測量，在所選表面 <= 1x1mm 上進行高分辨率、精確和深度輪廓分析，可以進行化學成像和角分辨測量
- 帶有儀器和軟件的變溫 STM/AFM 室，專用于原子分辨率測量
- 專門用于制備樣品的制備室，配備有 AES/LEED 光譜儀和帶有殘余氣體分析儀（包括儀器和軟件）的熱解吸光譜儀。此外，還配備了用于薄膜生產的熱和電子轟擊源和用于表面清潔的離子源。腔室配備機械手XYZ，
- 旋轉傾斜允許將樣品冷卻至 90°K 并將樣品加熱至 2200°K。
此外，該系統還配備：
樣品裝載、傳輸和存儲系統，樣品制備和清潔設備。UHV 流經高壓反應器。氣體加藥系統、壓力和溫度測控系統、真空控制系統。樣品溫度測控系統。樣品裝載，為 UHV 手提箱使用做準備，獨特的徑向分布室系統，具有極易處理的解決方案。具有加熱和冷卻可能性的儲藏室。用于高達 20 bar 和 650°C 的熱/壓力過程的高壓反應器。在高壓和特高壓下極短時間加熱的解決方案。
