標準 PLD 系統
PREVAC 標準 PLD 系統由一個沉積過程腔體與一個裝載倉（Load-lock）組成，方便快速地加載樣品。
這款獨立式脈沖激光沉積（PLD）系統適用于生長鐵磁薄膜、陶瓷氧化物、高溫超導材料、金屬多層膜等。
特點與描述：
適用于大多數 PLD 生長工藝研究需求的多功能解決方案
支持生長材料類型包括：
鐵磁薄膜
陶瓷氧化物
高溫超導材料
金屬多層膜等
垂直式 PLD 工藝幾何結構
可配置 EXCIMER 激光器或 YAG 激光器，并配套激光光路引導系統
1~4 軸電動或手動樣品操控器（帶接收平臺），加熱溫度最高可達 1400°C（采用高穩定、長壽命的固體 SiC 加熱元件）
不同尺寸的樣品托架可選：從 10×10 mm 到 2 英寸
六位靶材操控器，支持原位靶材自動更換系統
靶材托架尺寸：1 英寸或 2 英寸
靶材與樣品的全自動或手動傳輸系統
基準真空度范圍：1×10?? 到 5×10?11 mbar（視泵系統配置而定）
腔體直徑：? 490 mm，具備多個附加接口
多種泵浦系統組合（前級泵、分子渦輪泵、離子泵和鈦升華泵）
真空計及相應配件
配備 Z 軸操控器的石英晶體監控器，用于沉積速率與膜厚監測（可測焦點位置）
Load-lock 腔體可同時傳輸樣品和靶材
快速可靠的線性傳輸系統，用于從 Load-lock 向過程腔體傳輸
帶遮光裝置的觀察窗口
集成吹掃管線的水冷系統，用于升溫前準備
系統烘烤組件
可調式剛性主框架結構
配備電子單元的 19 英寸控制柜
選項
電動或手動遮光器（跟隨樣品，可用于斜向層或掩膜沉積）
激光功率傳感器
附加存儲腔體
內置防護罩
交叉污染防護罩
真空手提箱（傳輸箱），帶有連接至 Load-lock 腔體的接口
附加氣體輸送系統（例如用于反應性沉積工藝）
殘余氣體分析儀（RGA）
束流通量監測器（Beam Flux Monitor）
加熱觀察窗（用于診斷設備）
高溫計 / 光學高溫測溫儀（Pyrometer）
橢偏儀（Ellipsometer）
通過 PLC 控制單元與 Synthesium 軟件實現對沉積工藝與整套設備的全流程控制
