qX2是一個溫度控制的比色皿支架，帶有兩個光學端口，用于吸收光譜或可使用這兩個端口執行的實驗。這是完全由用戶安裝和修改的最便宜的版本。使用qX2設置并保持精確的樣品溫度，并以穩定的可重復速率攪拌，同時將反應杯浸泡在受控的氣體環境中。盡管依賴于快速、精確的帕耳帖技術，但從0°C到110°C的正常運行不需要循環水。

購買低溫選項，包括帶窗護套和液體冷卻功能，從0°C到-35°C操作qX2。

購買擴展溫度選項，將操作擴展到110°C到150°C以上。使用TC 1B溫度控制器控制qX2。

對于額外的控制和溫度監控，請使用Quantum Northwest的計算機控制軟件T-App。

qX2 溫控支架產品特點：
快速、精確的帕耳帖溫度控制
精密步進電機驅動磁力攪拌
低溫工作用干氣吹掃
提高溫度穩定性的蓋子
安裝窗口或過濾器的螺紋插入件
控制照明體積的光學狹縫夾持器
用于移除反應杯的反應杯升降器
樣本溫度探頭輸入
NIST可追蹤溫度校準

qX2 溫控樣品池支架技術規格：
控制比色皿數：1
應用：吸收光譜
標準比色皿尺寸（外部）12.5 mm x 12.5 mm
每個比色皿的光學端口：2個
光學端口尺寸：12 mm高x 10 mm寬
比色皿z高度15 mm
提供有窗護套：有
工廠設定溫度范圍：-40°C至+110°C
容易達到的溫度范圍：-5°C至+110°C
低溫選項范圍：-35°C至+110°C
擴展溫度選項范圍：-35°C至+150°C
溫度精度±0.02°C
接受熱敏電阻探頭：探頭/QNW3
磁力攪拌電機類型：步進電機
磁攪拌轉速范圍：1-2500rpm
默認攪拌速度：1200 rpm

qX2 比色皿溫控支架基本包裝：
qX2–溫控比色皿支架
TC 1B–溫度控制器
NIST可追蹤校準和性能數據
磁力攪拌棒、干氣管道和電纜
攪拌速度最佳性能：60-1800 rpm

qX2 比色皿溫控支架可選配件：
T-App
/E-qX2 – High temperature option for qX2
/L-qX2 – Low temperature option for qX2
SLITS/qX2
Probe/10k-qX

適用光譜儀