VWC型真空熱處理爐可用于各種熱處理工藝，如低壓滲碳、淬火、回火、退火或焊接。在帶有圓柱形加熱室的真空爐的情況下，可用室由一個石墨圓柱體組成，其中放置了弧形石墨帶加熱元件。氣體循環(huán)系統(tǒng)可實現(xiàn)均勻淬火。這種類型的爐子特別適用于大面積的固體部件。
優(yōu)勢：
- 普遍適用
- 即使在最困難的條件下也能獲得一致的治療效果
- 加熱和冷卻過程中無與倫比的溫度均勻性
- 加熱和冷卻速率，以滿足您的需求
- 符合所有現(xiàn)行航空標(biāo)準(zhǔn)（AMS 2750 E、NADCAP 等）
- 通過觸摸屏輕松安全地操作
- 自己的制導(dǎo)系統(tǒng)“hestia”
- 服務(wù)友好
- 高效節(jié)能
- 采用石墨或金屬絕緣的加熱室可實現(xiàn)最佳絕緣值
- 采用新的循環(huán)概念，實現(xiàn)最佳對流加熱
- 淬火壓力高達(dá) 20 bar
- 由于特殊的噴嘴布置和三維氣體路由，具有無與倫比的淬火性能
- 即使在真空下，氣體循環(huán)器也能全速前進(jìn)
標(biāo)準(zhǔn)：
可用空間
類型（寬 x 高 x 長，單位為毫米）
大眾 446 400 x 400 x 600
大眾 669 600 x 600 x 900
大眾 9812 900 x 800 x 1200
其他尺寸以及可根據(jù)要求提供技術(shù)數(shù)據(jù)。
