德國AMMT HF氣相蝕刻機由反應室和加熱晶片架以及電子控制單元組成。氫氟酸蒸汽是從反應池底部的一個小儲液器被動產生的。只需要約60-80ml的液體氫氟酸。HF Vapor Etcher Basic非常適合表面微加工、SOI-MEMS、無切割釋放、結構減薄和許多其他應用的研發工作。
在使用氫氟酸時，安全是一個重要問題。AMMT的工程師設計了這種易于使用、直接的蝕刻系統，具有最大的安全性，包括特殊的處理工具和蝕刻機周圍的安全容器，以防溢出。所有與液態氫氟酸接觸的部件都可以很容易地拆卸和清潔。
隨系統提供的AMMT控制單元允許精確加熱（典型值±0.2°C），并具有一個集成定時器來控制蝕刻過程。
