德國AMMT HF氣相蝕刻機(jī)由反應(yīng)室和加熱晶片架以及電子控制單元組成。氫氟酸蒸汽是從反應(yīng)池底部的一個(gè)小儲(chǔ)液器被動(dòng)產(chǎn)生的。只需要約60-80ml的液體氫氟酸。HF Vapor Etcher Basic非常適合表面微加工、SOI-MEMS、無切割釋放、結(jié)構(gòu)減薄和許多其他應(yīng)用的研發(fā)工作。
在使用氫氟酸時(shí)，安全是一個(gè)重要問題。AMMT的工程師設(shè)計(jì)了這種易于使用、直接的蝕刻系統(tǒng)，具有最大的安全性，包括特殊的處理工具和蝕刻機(jī)周圍的安全容器，以防溢出。所有與液態(tài)氫氟酸接觸的部件都可以很容易地拆卸和清潔。
隨系統(tǒng)提供的AMMT控制單元允許精確加熱（典型值±0.2°C），并具有一個(gè)集成定時(shí)器來控制蝕刻過程。
