Ambrell感應加熱器在鎵晶片的生產上的應用

目標:加熱石墨基座至1200℃,用于沉積鎵砷化物,通過加熱上面的碳石墨,然后將氦氣吹掃過基座,鎵砷化物可以沉積成一個晶圓,需要一個水冷的石英管和大約40升的氦氣(每分鐘),加熱的過程精確度非常重要。

材料:碳石墨基座

溫度:1200℃

應用:Ambrell15kw感應加熱器,水冷石英管,氦氣,4匝線圈

通過4英寸石英管每分鐘吹掃40升的氦氣

達到1200℃后保持45秒

可觀察到晶圓的產生

頻率:93khz