箱式涂布機 PVD 平臺
箱式涂布機是一種靈活的、與潔凈室兼容的涂布平臺，能夠大批量生產 100 毫米至 1200 毫米的基板和/或批量生產較小的部件。其外形尺寸提供了出色的膜厚均勻性，并為先進的夾具選項提供了充足的空間。所有箱式涂布機平臺配置都能對膜厚不均勻性、材料產量和產量進行主動建模和校正。
可定制的底板和尺寸，Box Coater PVD（物理氣相沉積）平臺是適應各種來源、工藝和基底固定解決方案。根據研究目標、生產需求和/或應用最終目標決定箱式鍍膜機的裝備。適合各種應用，包括金屬化、光學鍍膜、傳感和銦凸點鍵合制造。
沉積源選項
濺射
射頻、直流、脈沖直流、HIPIMS 和反應式?？商峁﹫A形、線形和圓柱形陰極。
熱蒸發(fā)
可使用各種舟形、絲狀和坩堝加熱器。自動調整功能可確保精確的速率控制。
電子束蒸發(fā)
提供多種源功率和電源選項。通過 Aeres 軟件平臺控制帶有配方存儲功能的可編程掃頻控制器。扭矩感應坩堝分度器可檢測坩堝袋堵塞情況。Nexdep?室可容納多個電子束源。
等離子和離子束處理
使用一系列離子源進行清洗和薄膜增強，包括輝光放電等離子清洗。
