HIPIMS 濺射是高功率脈沖磁控濺射的縮寫。脈沖濺射的這一相對較新的進展使用非常高功率、短持續時間的脈沖來產生等離子體并電離大部分濺射原子。

事實證明，精確控制靶材表面的磁場強度對于 HIPIMS 工藝對于減少電弧和優化濺射材料的電離至關重要。

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