PVD 或物理氣相沉積材料包括一系列可用于制造薄膜涂層的材料。Angstrom Sciences 提供全面的高純度真空沉積材料選擇，包括上圖所示。

影響物理氣相沉積 （PVD） 沉積的薄膜的質量和功能的因素有三個：沉積源的質量和性能、沉積材料的特性和結構，以及沉積系統及其相關外圍設備的內在性能和布局。Angsstrom Sciences 有能力并知道如何控制這三個主要因素中的兩個。

從任何尺寸的濺射靶材到用于熱/電子束蒸發的材料，Angstrom Sciences 能夠為任何應用推薦和指導最合適的材料。在這些工藝中，并非所有材料都是等效的，因為原材料的化學成分只是穩健的、特定于應用的工藝的起點。雜質水平、晶粒尺寸、晶體結構/織構只是獨特定制合適沉積結構結構的幾個考慮因素。我們采用各種專業加工技術，如熱壓、冷壓、熱等靜壓 （HIP）、冷等靜壓 （CIP）、真空感應熔煉 （VIM） 和真空電弧鑄造，生產出符合最嚴格應用標準的均質、細晶粒、高密度材料。我們所有的 PVD 材料都提供 NIST 可追溯的成分和雜質分析。

我們過去交付的材料清單;認識到這份清單只是觸及了我們可以提供的作品的皮毛。在 Angstrom Sciences，沒有訂單太小或太大。定制成分沒有最小批量要求，我們對客戶服務的非凡關注令業界羨慕不已。我們通常為平面、圓形和圓柱形濺射靶材提供背板（銅、鉬、銅鉻），為濺射靶材冷卻提供導電漿料和熱轉印箔，并且還提供鍵合服務，作為我們為 PVD 社區提供全面服務的一部分。

有關?PVD 材料或 Angstrom Sciences 如何幫助您的業務的更多信息，在線聯系我們。