Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制

Angstrom Sciences 為磁控濺射應(yīng)用帶來的尖端技術(shù)而享譽(yù)國際。我們現(xiàn)在已經(jīng)開發(fā)出一種方法來控制穿過靶材表面的等離子體。ONYX-Φlux 控制，（通量控制）為平面和圓形磁控管開發(fā)，允許用戶最大化均勻性或目標(biāo)利用率。

控制均勻度

磁場在目標(biāo)表面上特定點的可編程停留時間。提供對電場和磁場交叉點的精確控制，以聚焦腐蝕輪廓并調(diào)整均勻性。

控制材料利用率

以恒定速率將等離子體掃過目標(biāo)表面。在厚度高達(dá) 1.4 英寸（35 毫米）的平面目標(biāo)上可以實現(xiàn)高達(dá) 65% 的目標(biāo)利用率，從而實現(xiàn)極長的運行時間。

用戶友好的軟件

• 直觀的用戶界面
• 三種用戶模式 ??- 運行、編輯、手動
• 觸摸屏技術(shù)
• 等離子體的輸入位置和停留時間