Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制
Angstrom Sciences 為磁控濺射應用帶來的尖端技術而享譽國際。我們現在已經開發出一種方法來控制穿過靶材表面的等離子體。ONYX-Φlux 控制，（通量控制）為平面和圓形磁控管開發，允許用戶最大化均勻性或目標利用率。
控制均勻度
磁場在目標表面上特定點的可編程停留時間。提供對電場和磁場交叉點的精確控制，以聚焦腐蝕輪廓并調整均勻性。
控制材料利用率
以恒定速率將等離子體掃過目標表面。在厚度高達 1.4 英寸（35 毫米）的平面目標上可以實現高達 65% 的目標利用率，從而實現極長的運行時間。
用戶友好的軟件
- 直觀的用戶界面
- 三種用戶模式 ??- 運行、編輯、手動
- 觸摸屏技術
- 等離子體的輸入位置和停留時間
