美國Angstrom Sciences,磁控濺射,ONYX-Φlux 控制器
Angstrom Sciences， Inc. 成立于 1988 年，為高質量薄膜的等離子體氣相沉積提供先進的磁控管和精制材料。該公司非常注重研發，很快就為磁性、水冷和圓形磁控管目標夾緊設計方面的多項技術進步申請了專利。Angstrom Advantage™ 的特點創造了薄膜行業中最先進、最易于使用的磁控管。
Angstrom Sciences 以我們為磁控濺射應用帶來的尖端技術而享譽國際。我們現在開發了一種控制靶材表面等離子體的方法。為平面和圓形磁控管開發的 ONYX-Φlux Control（磁通量控制）允許用戶最大限度地提高均勻性或目標利用率。
控制均勻性
磁場在目標表面特定點的可編程停留時間。提供對電場和磁場交叉點的精確控制，以聚焦腐蝕剖面并調整均勻性。
控制材料利用率
以恒定速率將等離子體掃過目標表面。在厚度達 1.4 英寸（35 毫米）的平面目標上可實現高達 65% 的目標利用率，從而實現極長的運行時間。
用戶友好的軟件
- 直觀的用戶界面
- 三種用戶模式 – 運行、編輯、手動
- 觸摸屏技術
- 等離子體的輸入位置和停留時間
全面承諾
Angstrom Sciences 致力于通過提供世界上最先進的磁控管、高質量的沉積材料和全面的技術支持，幫助我們的客戶開發最具生產力和成本效益的薄膜應用。我們隨時準備確保您滿意。這就是為什么我們為所有磁控管提供 2 年保修，這是業內最長的保修。
