當今的光盤行業面臨著日益復雜的生產挑戰。盡管對薄膜均勻性的要求保持不變，但該工藝的經濟性會隨著材料成本的變化而發生巨大變化。

對于許多磁盤制造商來說，這意味著安裝兩個截然不同的系統 – 一個是為了實現低成本材料的最大吞吐量，另一個是實現貴金屬和其他昂貴靶材的高目標利用率。