圓形磁控濺射源
Angstrom Sciences的圓形磁控管憑借Angstrom Advantage技術及多項創新設計，已成為濺射行業的性能標桿，為用戶提供幾乎無限的配置可能與工藝表現。
產品特色
多功能緊湊設計
緊湊型結構設計使我們的圓形磁控管既能適配新型真空系統，也能完美兼容改造項目，即使是最復雜的多陰極簇組裝置與微型真空腔體也能應對自如。
全功率兼容性
低阻抗濺射頭支持射頻、直流、中頻直流、脈沖直流、高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）及微波功率模式。
標準化接口
采用ISO NW標準接口與Conflat?金屬密封法蘭。所有公用設施接口均采用標準O型圈壓縮密封設計，保持常壓連接狀態，可輕松集成至任何真空系統。
全尺寸覆蓋
提供1英寸（25mm）至16英寸（406mm）標準尺寸圓形磁控濺射源，更大尺寸靶材可接受定制化配置。
快速靶材更換
小型圓形陰極采用專利螺紋靶材夾固定機構和陽極屏蔽罩設計，無需輔助工具即可完成靶材更換。內置可調節機構可直接適配不同厚度靶材，無需額外墊片。
低壓強高功率運行
ONYX?磁控管可在極低壓強環境下穩定運行（最低至10-4托范圍），直接水冷設計可支持250瓦/平方英寸（30瓦/平方厘米）的連續工作功率密度。
高效沉積性能
更高功率密度可大幅提升基材鍍膜速率。Angstrom Sciences磁控管在保持高速沉積的同時，既能擴大鍍膜區域又能實現約40%的靶材利用率。
卓越均勻性
專利輪廓磁體設計使鍍膜均勻性顯著提升，常規工況下可達±1-3%的精度水平。
低污染特性
磁場均勻分布在整個靶面，有效減少顆粒污染物殘留和再沉積現象造成的缺陷。
全方位質量承諾
所有Angstrom Sciences磁控管均享受兩年工藝與材料質量保證。磁控管是我們的核心產品，我們始終致力于確保您的完全滿意。
