ONYX-Φlux等離子控制技術(shù)
Angstrom Sciences以其在磁控濺射應(yīng)用領(lǐng)域的尖端技術(shù)享譽(yù)全球。我們最新開發(fā)的靶面等離子控制技術(shù)——ONYX-Φlux Control（通量控制系統(tǒng)），同時(shí)適用于平面和圓形磁控管，使用戶能夠精準(zhǔn)優(yōu)化薄膜均勻性或靶材利用率。

技術(shù)特性
均勻性控制
通過編程控制磁場(chǎng)在靶面特定位置的駐留時(shí)間，精確調(diào)控電磁場(chǎng)交叉點(diǎn)位置，實(shí)現(xiàn)刻蝕輪廓聚焦與均勻性微調(diào)。

材料利用率控制
以恒定速率驅(qū)動(dòng)等離子體掃描靶面，平面對(duì)靶可實(shí)現(xiàn)高達(dá)65%的利用率（最大靶材厚度1.4英寸/35mm），大幅延長(zhǎng)連續(xù)運(yùn)行時(shí)間。

用戶友好軟件

• 直觀的用戶交互界面

• 三種操作模式：運(yùn)行/編輯/手動(dòng)

• 觸摸屏技術(shù)

• 等離子體位置與駐留時(shí)間輸入功能

全程品質(zhì)承諾
Angstrom Sciences通過提供全球最先進(jìn)的磁控管、高品質(zhì)沉積材料及全面技術(shù)支持，助力客戶實(shí)現(xiàn)高效經(jīng)濟(jì)的光學(xué)薄膜應(yīng)用。我們以行業(yè)最長(zhǎng)的兩年質(zhì)保期為所有磁控管提供質(zhì)量保障，始終致力于確保您的完全滿意。