Angstrom Sciences等離子體分析與過程控制、PLASUS-EMICON光譜等離子體監(jiān)測系統(tǒng)

等離子體分析與過程控制
PLASUS – EMICON光譜等離子體監(jiān)測系統(tǒng)………工業(yè)與研發(fā)領(lǐng)域的過程控制

PLASUS是光譜等離子體監(jiān)測系統(tǒng)的領(lǐng)先制造商。成立25年來，我們的核心競爭力是為工業(yè)與研發(fā)應(yīng)用開發(fā)一站式過程控制系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于等離子體監(jiān)測、過程控制、工藝優(yōu)化、質(zhì)量控制及光譜等離子體分析。

憑借我們多年的經(jīng)驗和行業(yè)領(lǐng)先技術(shù)，我們將為您提供全方位服務(wù)，并為您的應(yīng)用需求提供全面建議！

PLASUS EMICON系統(tǒng)是先進的等離子體分析與過程控制系統(tǒng)，可作為高速閉環(huán)工藝氣體控制器，專為基于反應(yīng)濺射的真空鍍膜和等離子體處理工藝的實時原位精確控制而設(shè)計。這些系統(tǒng)完整、緊湊、靈活、使用便捷且經(jīng)濟高效，可輕松集成到新系統(tǒng)及現(xiàn)有系統(tǒng)中。無論是生產(chǎn)還是研發(fā)設(shè)備，過程流量控制器均能顯著提升工藝穩(wěn)定性、可重復(fù)性和成品率。系統(tǒng)提供多種配件，包括專為HIPMS濺射應(yīng)用設(shè)計的傳感器。

在工業(yè)等離子體應(yīng)用中，過程控制對確保工藝可靠性和高質(zhì)量至關(guān)重要。光學(xué)發(fā)射光譜（OES）技術(shù)因其不影響等離子體且可實時監(jiān)測多種等離子體成分而成為首選技術(shù)。我們的PLASUS EMICON系統(tǒng)具備分析、優(yōu)化和控制等離子體應(yīng)用所需的全方位功能。

Angstrom Sciences在平面和圓柱形磁控管領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗及市場領(lǐng)先地位，致力于為高性能反應(yīng)濺射工藝提供最全面的行業(yè)性能與應(yīng)用定制化設(shè)計整體解決方案。Angstrom Sciences還可提供現(xiàn)場工藝支持及流程系統(tǒng)集成服務(wù)，為客戶提供硬件與完全集成的解決方案。具體選項及更多詳情，請聯(lián)系我們的銷售團隊。

系統(tǒng)特性：
寬帶光譜采集
系統(tǒng)的寬帶光譜儀模塊可連續(xù)采集200至1100 nm范圍內(nèi)等離子體光發(fā)射的完整光譜。

等離子體發(fā)射實時監(jiān)測
實時觀測并追蹤工藝相關(guān)等離子體粒子的光發(fā)射，實現(xiàn)對等離子體狀態(tài)的持續(xù)監(jiān)測，并即時響應(yīng)變化。

工藝優(yōu)化
通過系統(tǒng)對參數(shù)變化的即時響應(yīng)，實時監(jiān)測功能可優(yōu)化等離子體工藝。

過程控制
提供模擬與數(shù)字輸入輸出接口，支持開環(huán)和閉環(huán)控制功能。此功能可用于終點檢測或監(jiān)測等離子體工藝條件與標(biāo)準(zhǔn)的偏差。集成的數(shù)字PID控制功能可直接應(yīng)用于需要閉環(huán)控制的場景，如反應(yīng)濺射應(yīng)用中的氣流控制或功率控制。

多通道系統(tǒng)
EMICON MC和EMICON SA系統(tǒng)最多支持8個獨立光譜儀通道，可實現(xiàn)多腔室過程控制或反應(yīng)濺射應(yīng)用中的空間分辨氣流控制。

工業(yè)環(huán)境便捷設(shè)置
系統(tǒng)所有組件均設(shè)計用于工業(yè)環(huán)境。適用于固定生產(chǎn)線的EMICON SA系統(tǒng)通過LAN接口管理，而EMICON MC系統(tǒng)的USB 2.0連接性使其成為多場景移動應(yīng)用的首選。

工業(yè)現(xiàn)場總線接口與LAN API
EMICON SA型號可擴展PROFIBUS、PROFINET、EtherCAT或EtherNET/IP等工業(yè)接口，所有EMICON型號均支持LAN API，便于集成至客戶應(yīng)用中。

型號系列
EMICON系列涵蓋多種應(yīng)用類型：

  • EMICON SA：獨立多通道系統(tǒng)，集成工藝單元，適用于生產(chǎn)線過程控制。

  • EMICON FS：快速光譜與電學(xué)等離子體監(jiān)測系統(tǒng)，適用于HiPIMS或脈沖直流等脈沖應(yīng)用。

  • EMICON MC：多通道標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)，用于等離子體監(jiān)測與過程控制。

  • EMICON HR：高分辨率光譜系統(tǒng)，用于精細等離子體分析與監(jiān)測。

  • EMICON LC：光譜鍍層控制系統(tǒng)，用于膜厚與顏色的原位監(jiān)測與控制。

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