ONYX-Φlux等離子控制技術
Angstrom Sciences以其在磁控濺射應用領域的尖端技術享譽全球。我們最新開發的靶面等離子控制技術——ONYX-Φlux Control（通量控制系統），同時適用于平面和圓形磁控管，使用戶能夠精準優化薄膜均勻性或靶材利用率。

技術特性
均勻性控制
通過編程控制磁場在靶面特定位置的駐留時間，精確調控電磁場交叉點位置，實現刻蝕輪廓聚焦與均勻性微調。

材料利用率控制
以恒定速率驅動等離子體掃描靶面，平面對靶可實現高達65%的利用率（最大靶材厚度1.4英寸/35mm），大幅延長連續運行時間。

用戶友好軟件

• 直觀的用戶交互界面

• 三種操作模式：運行/編輯/手動

• 觸摸屏技術

• 等離子體位置與駐留時間輸入功能

全程品質承諾
Angstrom Sciences通過提供全球最先進的磁控管、高品質沉積材料及全面技術支持，助力客戶實現高效經濟的光學薄膜應用。我們以行業最長的兩年質保期為所有磁控管提供質量保障，始終致力于確保您的完全滿意。