等離子體分析與過程控制
PLASUS – EMICON光譜等離子體監測系統………工業與研發領域的過程控制

PLASUS是光譜等離子體監測系統的領先制造商。成立25年來，我們的核心競爭力是為工業與研發應用開發一站式過程控制系統。我們的系統廣泛應用于等離子體監測、過程控制、工藝優化、質量控制及光譜等離子體分析。

憑借我們多年的經驗和行業領先技術，我們將為您提供全方位服務，并為您的應用需求提供全面建議！

PLASUS EMICON系統是先進的等離子體分析與過程控制系統，可作為高速閉環工藝氣體控制器，專為基于反應濺射的真空鍍膜和等離子體處理工藝的實時原位精確控制而設計。這些系統完整、緊湊、靈活、使用便捷且經濟高效，可輕松集成到新系統及現有系統中。無論是生產還是研發設備，過程流量控制器均能顯著提升工藝穩定性、可重復性和成品率。系統提供多種配件，包括專為HIPMS濺射應用設計的傳感器。

在工業等離子體應用中，過程控制對確保工藝可靠性和高質量至關重要。光學發射光譜（OES）技術因其不影響等離子體且可實時監測多種等離子體成分而成為首選技術。我們的PLASUS EMICON系統具備分析、優化和控制等離子體應用所需的全方位功能。

Angstrom Sciences在平面和圓柱形磁控管領域擁有豐富經驗及市場領先地位，致力于為高性能反應濺射工藝提供最全面的行業性能與應用定制化設計整體解決方案。Angstrom Sciences還可提供現場工藝支持及流程系統集成服務，為客戶提供硬件與完全集成的解決方案。具體選項及更多詳情，請聯系我們的銷售團隊。

系統特性：
寬帶光譜采集
系統的寬帶光譜儀模塊可連續采集200至1100 nm范圍內等離子體光發射的完整光譜。

等離子體發射實時監測
實時觀測并追蹤工藝相關等離子體粒子的光發射，實現對等離子體狀態的持續監測，并即時響應變化。

工藝優化
通過系統對參數變化的即時響應，實時監測功能可優化等離子體工藝。

過程控制
提供模擬與數字輸入輸出接口，支持開環和閉環控制功能。此功能可用于終點檢測或監測等離子體工藝條件與標準的偏差。集成的數字PID控制功能可直接應用于需要閉環控制的場景，如反應濺射應用中的氣流控制或功率控制。

多通道系統
EMICON MC和EMICON SA系統最多支持8個獨立光譜儀通道，可實現多腔室過程控制或反應濺射應用中的空間分辨氣流控制。

工業環境便捷設置
系統所有組件均設計用于工業環境。適用于固定生產線的EMICON SA系統通過LAN接口管理，而EMICON MC系統的USB 2.0連接性使其成為多場景移動應用的首選。

工業現場總線接口與LAN API
EMICON SA型號可擴展PROFIBUS、PROFINET、EtherCAT或EtherNET/IP等工業接口，所有EMICON型號均支持LAN API，便于集成至客戶應用中。

型號系列
EMICON系列涵蓋多種應用類型：

• EMICON SA：獨立多通道系統，集成工藝單元，適用于生產線過程控制。

• EMICON FS：快速光譜與電學等離子體監測系統，適用于HiPIMS或脈沖直流等脈沖應用。

• EMICON MC：多通道標準系統，用于等離子體監測與過程控制。

• EMICON HR：高分辨率光譜系統，用于精細等離子體分析與監測。

• EMICON LC：光譜鍍層控制系統，用于膜厚與顏色的原位監測與控制。

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