Angstrom Sciences 是磁控濺射技術的領先制造商和創新者，這是我們不斷努力滿足客戶應用需求的一部分。磁控濺射是一種 PVD（物理氣相沉積）工藝。物理氣相沉積是一種將固體“目標”材料汽化、運輸，然后沉積到基材上以形成薄膜的任何工藝。
由于磁控濺射在分子水平上工作，它可以產生一種材料的較小顆粒并將其以更均勻和更緊密的圖案投射到另一種材料上，從而由于 PVD ??的高能量穿透特性而提高了涂層的性能和耐用性。
磁控濺射實際上產生了一種鍵，該鍵可以穿透材料表面數埃，而不僅僅是涂層或粘附在表面材料上。該工藝遠優于涂漆和電鍍，因為通過 PVD ??獲得的更耐用、高附著力的涂層更能抵抗環境條件。
磁控濺射技術已被納入廣泛的技術中，因為適應涂層基板不同形狀因素的設計已經成熟，并且已經開發了沉積光學、摩擦學、電子、醫療和其他功能涂層和表面處理的工藝。
由于磁控濺射是多種不同且不斷變化的技術，因此我們在此頁面之外創建了附加頁面，以突出特定技術以及它們與材料和應用的關系。
