圓形磁控濺射源
Angstrom Sciences的圓形磁控管憑借Angstrom Advantage技術(shù)及多項(xiàng)創(chuàng)新設(shè)計(jì)，已成為濺射行業(yè)的性能標(biāo)桿，為用戶提供幾乎無限的配置可能與工藝表現(xiàn)。
產(chǎn)品特色
多功能緊湊設(shè)計(jì)
緊湊型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使我們的圓形磁控管既能適配新型真空系統(tǒng)，也能完美兼容改造項(xiàng)目，即使是最復(fù)雜的多陰極簇組裝置與微型真空腔體也能應(yīng)對(duì)自如。
全功率兼容性
低阻抗濺射頭支持射頻、直流、中頻直流、脈沖直流、高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）及微波功率模式。
標(biāo)準(zhǔn)化接口
采用ISO NW標(biāo)準(zhǔn)接口與Conflat?金屬密封法蘭。所有公用設(shè)施接口均采用標(biāo)準(zhǔn)O型圈壓縮密封設(shè)計(jì)，保持常壓連接狀態(tài)，可輕松集成至任何真空系統(tǒng)。
全尺寸覆蓋
提供1英寸（25mm）至16英寸（406mm）標(biāo)準(zhǔn)尺寸圓形磁控濺射源，更大尺寸靶材可接受定制化配置。
快速靶材更換
小型圓形陰極采用專利螺紋靶材夾固定機(jī)構(gòu)和陽極屏蔽罩設(shè)計(jì)，無需輔助工具即可完成靶材更換。內(nèi)置可調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)可直接適配不同厚度靶材，無需額外墊片。
低壓強(qiáng)高功率運(yùn)行
ONYX?磁控管可在極低壓強(qiáng)環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行（最低至10-4托范圍），直接水冷設(shè)計(jì)可支持250瓦/平方英寸（30瓦/平方厘米）的連續(xù)工作功率密度。
高效沉積性能
更高功率密度可大幅提升基材鍍膜速率。Angstrom Sciences磁控管在保持高速沉積的同時(shí)，既能擴(kuò)大鍍膜區(qū)域又能實(shí)現(xiàn)約40%的靶材利用率。
卓越均勻性
專利輪廓磁體設(shè)計(jì)使鍍膜均勻性顯著提升，常規(guī)工況下可達(dá)±1-3%的精度水平。
低污染特性
磁場(chǎng)均勻分布在整個(gè)靶面，有效減少顆粒污染物殘留和再沉積現(xiàn)象造成的缺陷。
全方位質(zhì)量承諾
所有Angstrom Sciences磁控管均享受兩年工藝與材料質(zhì)量保證。磁控管是我們的核心產(chǎn)品，我們始終致力于確保您的完全滿意。
