線性磁控濺射源
專利優勢
Angstrom Sciences的線性磁控管采用全封裝專利技術，通過特殊輪廓設計的釹鐵硼稀土磁體將磁場均勻分布至整個靶面，顯著提升靶材利用率的同時，最大限度減少靶面顆粒污染。所有磁控濺射陰極均采用湍流水流冷卻技術，實現最優熱傳導效率，有效消除因靶面熱點引起的工藝不均勻性。結合集成工藝氣體入口、實體陽極壁等創新設計，以及尖端材料的應用，共同確保您的濺射工藝獲得無與倫比的性能與可靠性。

線性磁控濺射源
行業革新動力
隨著越來越多行業認識到磁控濺射技術在沉積速度、工藝可控性和綜合效益方面的優勢，Angstrom Sciences正持續開發新型設備，以滿足更大規模、更高效率的現代化制造需求。

規模化解決方案
針對超寬基材鍍膜及超高產能需求，我們的線性磁控管提供完美的在線式解決方案。

ONYX線性磁控管
全功率兼容性
低阻抗濺射頭支持射頻、直流、中頻直流、脈沖直流、高功率脈沖磁控濺射HiPIMS及微波功率模式。

ONYX線性磁控管
標準化接口配置
可采用ISO NW標準接口、Conflat?金屬密封法蘭或定制O型圈密封法蘭。所有公用設施接口通常保持常壓狀態，通過標準O型圈壓縮接頭連接，確保輕松集成至任何真空系統。

卓越性能驗證
這些磁控管提供了無與倫比的性能表現，使Angstrom Sciences成為行業標桿。在極低工作壓力和超高功率密度下的穩定運行，確保您在各類應用中實現均勻性、利用率和沉積速率的最佳平衡。

全方位尺寸定制
線性磁控陰極提供1英寸（25mm）至16英寸（406mm）的靶材寬度選擇，長度最大可達185英寸（4700mm）。我們完全具備設計與制造定制化磁控管的能力，滿足您的任何生產需求。

全程品質承諾
所有Angstrom Sciences磁控管均享受兩年工藝與材料質量保證。作為我們的核心業務，我們始終致力于確保您的完全滿意。

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