美國 ARC 汞燈 Advanced Radiation Corporation 汞氙燈 DUV-350

Advanced Radiation Corporation 的光刻用深紫外 （DUV） 短弧燈系列代表了用于短波長紫外光刻膠曝光的高強度光源的設計、制造和性能的最新水平。

深紫外線輻射是由汞-氙等離子體產生的。在燈制造過程中，必須仔細控制等離子體成分的精確濃度和比例，以獲得最大的輸入功率以輸出輻射轉換。這里描述的八款 DUV 燈代表了與美國領先的 DUV 曝光設備和系統制造商三年多的研發成果。

這些燈非常適合多種 DUV 光刻膠配方。PMMA 在 210 至 260 nm 范圍內敏感;從 200 到 330nm;AZ2400 系列，從 240 到 310nm;而 ODVR 系列在 200 至 315 nm 范圍內敏感。

此類別中的產品：
DUV-350
DUV-500
DUV-1000
DUV-2000
DUV-350-30118
DUV-500-30036
DUV-500-30055
DUV-500-30056