Beam Imaging RFIS-100離子源裝置、射頻離子源、G-1和G-2型離子槍加速器系統(tǒng)、RF離子源
BIS介紹了新型RFIS-100離子源裝置。RFIS-100被設(shè)計(jì)成可根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行改裝G-1和G-2型離子槍加速器系統(tǒng)。離子源在13.56 MHz的RF電源下工作，手動(dòng)調(diào)節(jié)匹配網(wǎng)絡(luò)以產(chǎn)生電感耦合等離子體(ICP)。與標(biāo)準(zhǔn)的Colutron熱陰極DC放電源相比，RF離子源具有許多優(yōu)點(diǎn)，包括維護(hù)間隔時(shí)間更長，尤其是使用氧氣和活性氣體時(shí)，以及更高的束流。
| Ion Source Flange | 6” (152mm) Conflat |
|---|---|
| RF Power Supply | 13.56MHz, 500W |
| Sputter Target, Metal Ions (Optional) | 200V, 0.5A |
| RF Antenna | 6.5 Turn, 2mm diameter Cu tube, water cooled, 1/8″ VCR |
| Gas Isolator | 10kV Isolation, 1/8” Swagelok input |
| RF Antenna Feedthrough | 5kV Isolation, Copper, 1/8″ VCR |
| Plasma Start Circuit | 12kV Isolation feedthrough |
| Water Cooling Requirement | 1 Liter/min (RF Antenna) |
| Force Air Cooling Requirement | Fan built into Plexiglas Enclosure for High Voltage Safety protection. (Fan Specification:47 CFM, 12VDC, 200mA) |
| RF Match Network | Two Vacuum variable capacitors (Tune, Load), 10-1200 pF, 4kV (Nominal), 6kV (Max), 75A (Manual Tune), Pmax=15kW (@40MHz) |
| RFMB-100 Match Box Input Connections (5) | 2 X 1/4” Swagelok, Water cooling, RF Antenna, 1/8” Swagelok, Source Gas Inlet, RF Type N, Male, BNC, Male, Sputter Target Supply |
| 模型 | RFIS-100, RFIS-101, RFIS-007, RFIS-010, RFMB-100, RFMB-200 |
RFIS-100被設(shè)計(jì)成可根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行改裝G-1和G-2型離子槍加速器系統(tǒng)。離子源在13.56 MHz的RF電源下工作，手動(dòng)調(diào)節(jié)匹配網(wǎng)絡(luò)以產(chǎn)生電感耦合等離子體(ICP)。與標(biāo)準(zhǔn)的Colutron熱陰極DC放電源相比，RF離子源具有許多優(yōu)點(diǎn)，包括維護(hù)間隔時(shí)間更長，尤其是使用氧氣和活性氣體時(shí)，以及更高的束流。除了能夠從氣體中產(chǎn)生離子之外，新的離子源具有通過在放電室中用金屬靶濺射源氣體來產(chǎn)生金屬離子的額外能力。還沒有Colutron離子槍的客戶可以購買新的離子源，以適合他們自己的離子加速器系統(tǒng)。擁有Colutron離子槍的用戶將從離子槍上取下標(biāo)準(zhǔn)的Colutron DC離子源和散熱器組件，并將RF離子源直接連接到Colutron 500型絕緣體法蘭上。射頻源不需要Colutron散熱器即可工作。
