Beam Imaging Solutions（BIS）展示了新型RFIS-100離子源組件。RFIS-100設計為可改裝為標準型號G-1和G-2離子槍加速器系統。離子源使用13.56 MHz的RF電源供電，并帶有手動調整匹配網絡，以產生電感耦合等離子體（ICP）。與標準Colutron熱陰極DC放電源相比，RF離子源具有許多優勢，包括維護之間的工作時間更長，尤其是使用氧氣和反應性氣體時，而且維護電流更高。除了能夠從氣體中產生離子之外，新的離子源還具有通過在放電室中用金屬靶濺射源氣體來產生金屬離子的附加功能。尚未擁有Colutron離子槍的客戶可以購買新的離子源，以適合他們自己的離子加速器系統。擁有Colutron離子槍的客戶將從離子槍上卸下標準的Colutron DC離子源和散熱器組件，然后將RF離子源直接連接到Colutron 500型絕緣子法蘭上。射頻源不需要Colutron散熱器運行。
 離子源成分 |  RFIS-101離子源組裝 | |
 帶屏蔽的RFIS-100 |  帶匹配網絡的RFIS-100 |
組成
1.?RFIS-101離子源組件（請參見上圖）。為了最大程度地減少停機時間，可以使用可能需要清潔和/或維修的二手設備快速更換新的RFIS-101組件。
2.?RFIS-007離子源法蘭。源法蘭具有兩個用于RF天線的VCR水饋通連接，以及用于可選濺射目標連接的50 ohm BNC連接，以及用于電啟動電路的12kV高壓饋通。
3.?RFIS-010氣體隔離器。為防止等離子體短路到離子源法蘭，已采用了特殊設計的高壓氣體斷路器，可實現高達10kV的隔離。氣體隔離器通過1/8“ swagelok接頭連接到RFIS-007離子源法蘭。
3.?RFMB-100 MRF火柴盒。RF Match盒中裝有適當調諧RF天線所需的高電流和高壓真空可變電容器，以及源操作所需的氣體，水和電氣連接。火柴盒還裝有新的高壓電弧電源，可通過簡單的電按鈕啟動離子源等離子體。
4.?RFMB-200高壓安全外殼。RFIS-100封裝還包括一個有機玻璃外殼，以確保在離子源高壓操作期間的操作員安全。機箱中裝有風扇，以提供離子源的額外冷卻。
