Beam Imaging Solutions（BIS）展示了新的DCIS-100離子源組件。該離子源為Colutron熱陰極放電型，與G-1型和G-2型離子槍系統一起使用。此源與Colutron氮化硼離子源（100型）設計相似，但由高度耐用的氧化鋁陶瓷（Al?₂?O?₃）。與氮化硼源不同，由于氮化硼的吸濕性，DCIS-100的初始脫氣時間以分鐘為單位，而不是以小時為單位。氧化鋁也比氮化硼具有更高的機械耐久性。DCIS-100還比Colutron的100-Q型石英離子源更耐用，并且能夠為更高電流的離子束提供更高的溫度和陽極放電電流。現在可以使用可以在放電室中產生軸向磁場的新型Colutron散熱器。

型號DCIS-100

型號DCIS-101

離子源可作為一個完整的組件（-100型）與離子源（DCIS-101型），接收法蘭（DCIS-102），氣體三通和固體電荷保持器一起使用。DCIS-101離子源也可單獨購買，并將插入標準的Colutron插座法蘭中。帶烤箱的離子源也可提供。該烘箱用于蒸發高達2000C的固體物料。

現在，Beam Imaging Solutions還可提供傳統的Colutron 100-Q型離子源和備件。細絲，陽極，接觸線和電源插座法蘭等許多零件在傳統的石英和陶瓷版本之間可以互換。也提供氮化硼版本的零件。