CRYSTAL GmbH 培養基 晶圓 光學元件 激光元件 晶體加工
CRYSTAL GmbH GGG substrate (110)K<0.5° 10x10x0.5 mm3 both sides polished Ra<0.5nm edges along (001)/(1-10) 1GGG 201B 基片 CRYSTAL GmbH GGG substrate (111)K<0.5° 10x10x0.5 mm3 both sides polished Ra<0.5nm edges along (11-2)/(1-10) 1GGG 301B 基片 CRYSTAL GmbH GGG substrate (111)K<0.5° 10x10x0.5 mm3 both sides polished Ra<0.5nm edges along (11-2)/(1-10) 1GGG 301B（40pcs) 基片 CRYSTAL GmbH SrTiO3:1.0at%Nb (100)K<0.5° 10x10x1.0 mm3 1STO 122E8 基片 CRYSTAL GmbH SrTiO3:1.4at%Nb (100)K<0.5° 10x10x1.0 mm3 1STO 122E11 基片
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