CrysTec GmbH 半導體材料硅/鍺晶片和襯底可按需提供表面涂層(氧化物、氮化物、金屬)

半導體材料硅/鍺晶片和襯底

-元素半導體
(Si、Ge)和半導體化合物
(例如GaAs、GaP、InP、InSb、CdTe、ZnSe……)

-標準晶圓和預處理-
直接從庫存中成型的基材,也可以是單件

-特殊形狀的晶體和
根據要求提供非標準屬性

 

半導體材料 硅標準產品:

取向:(100)(111)

直徑:2英寸至6英寸

表面:拋光/刻蝕

也可提供即用于外延生長的襯底,例如10 x 10 毫米2

可按需提供表面涂層(氧化物、氮化物、金屬)

其他尺寸和規格也可提供

半導體材料 硅性質:

結構:立方晶體 晶格常數:0.543 納米 密度:2.329 克/立方厘米 熔點:1412°C 帶隙:1.14 電子伏特

生長方法:Czochralski法 懸浮區域法

摻雜劑:n-磷 n-砷 n-銻 p-硼

電阻率:1-10 歐姆厘米 大于10 千歐姆厘米

 

半導體材料鍺標準產品:

取向:(100)(111)

直徑:2英寸至4英寸

表面:拋光/刻蝕

也可提供即用于外延生長的襯底,例如10 x 10 毫米2

也可以提供其他尺寸和規格

半導體材料鍺性質

結構:立方晶體 晶格常數:0.565 納米 密度:5.323 克/立方厘米


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